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2020-01-22 16:38 理财规划小编
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  一、光刻机主要是组装,难点是组装技术

  光刻机的在芯片制造中是用光在硅晶圆上刻画电路线,而光刻机的原理其实就是放大的单反,光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上,形成图形,其中最核心的就是镜头。
 
  其次就是分辨率,光刻机的分辨率是光刻机最重要的技术指标之一,决定了光刻机能够被应用于的工艺节点水平。
 
  最后是套刻精度,也就是指前后两道光刻工序之间彼此图形的对准精度,如果对准的偏差过大,就会直接影响产品的良率。
 
  所以光刻机最重要的技术其实是组装,就是把所有的元件组装起来,然后使分辨率达到最高,同时套刻精度达到最佳。
 
  也正因为如此,所以ASML曾说就算它公开图纸,别人也造不出来,就是因为别的的组装技术达不到,就算给你元件,你也达不到它的分辨率和精准。
 
  二、除了组装技术外,原件等也是关键,尤其是光学器件,也就是镜头
 
  上面其实也讲过了,除了组装技术外,原件中最核心的东西是镜头,目前镜头技术最牛的是日本,所以光刻机的设备中,光学部分的很多元件是采购自日本的。
 
  三、中国有造光刻机的企业,叫SMEE(上海微电子)
 
  如下图所示,上海微电子目前能造90nm工艺的光刻机,但ASML造的是7nm/5nm的,中间的差距至少是10年以上,并且还要ASML在原地不动,等着SMEE来追它,可能10年能够追上。

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